技術(shù)文章
當(dāng)前位置:首頁 > 技術(shù)文章
產(chǎn)品概述LVD-F1是一款適用于實驗室中CVD或DLCVD實驗的導(dǎo)入液體的一款經(jīng)濟高效的液體蒸發(fā)輸送系統(tǒng)。其液體流量是通過一個數(shù)字液體泵來控制,最大流量為10ml/min。液體被蠕動泵導(dǎo)入到混氣系統(tǒng)后,被系統(tǒng)里的加熱裝置加熱成蒸汽,然后隨導(dǎo)入的氣體被帶入到爐管中。LVD-F1能夠?qū)С龆喾N液體,比如ETOH,SnCl4,TiCl4r,SiHCl3,和Zn(C2H5)2,還有多種有機物混合。對于研究用...
開啟式管式爐是管試爐的一種,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。石英玻璃管橫穿于爐體中間作為的爐膛,爐管兩端用不銹鋼法蘭密封,工件式樣在管中加熱,加熱元件與爐管平行,均勻的分布在爐管外,有效的保證了溫場的均勻性。上蓋開啟式結(jié)構(gòu)方便客戶對特殊材料的裝載,燒制和觀察,并有助于快速升降溫。開啟式管式爐分單溫區(qū),雙溫區(qū),三溫區(qū),四溫區(qū),五溫區(qū)。開啟式管式爐的安裝細節(jié)1.本系列電爐不需特殊安裝,室內(nèi)平整的地面或工作臺上均可安放。但配套的控制器應(yīng)避免震動,放置位置與實驗電爐不宜太近,防止過熱而影響控...
小型真空管式爐的成套供應(yīng)范圍有溫度控制器、熱電偶、補償導(dǎo)線等。溫度控制有繼電器控制、可控硅控制二種,由于是間歇式作業(yè)爐,一般都采用40段PlD可編程控制,能嚴格控制產(chǎn)品的燒制過程。小型真空管式爐安裝注意事項1、電爐不需特殊安裝,只需平放在室內(nèi)地面或臺架上。控制器應(yīng)放在工作臺上,工作臺面的傾斜度不得超過5度??刂破麟x電爐zui小距離不得少于0.5米。控制器不宜放在電爐上面,以免影響控制器正常工作。2、檢查接線無誤后即可通電,首先合上電源開關(guān),然后將控制器面板上的鈕子開關(guān)拔向開的...
真空管式爐是在真空環(huán)境中進行加熱的設(shè)備,一般由爐膛、電熱裝置、密封爐殼、真空系統(tǒng)、供電系統(tǒng)和控溫系統(tǒng)等組成。真空爐按加熱元件分為真空電阻爐、真空感應(yīng)爐、真空電弧爐、真空自耗電弧爐、電子束爐和等離子爐等。真空管式爐一般在春秋季節(jié)泄漏故障較多,長期閑置的真空爐在才次使用時真空爐泄漏故障比較易發(fā)生。這時間就必須進行真空檢漏,真空檢漏一般采取每月一次測壓升率(在常溫下,關(guān)閉所有真空閥,停止真空系統(tǒng)運轉(zhuǎn),1Omin后讀一個數(shù),1h后再讀一個數(shù),兩數(shù)之差是壓升率的數(shù)值),掌握設(shè)備泄漏變化...
3靶等離子濺射儀的使用分3個步驟,即裝樣品、抽真空、濺射,待廠家為您一一講解:一、裝樣品1、充氣:打開充氣旋鈕,使得空氣進入鐘罩。2、開電源總開關(guān),接通電源。3、升鐘罩:將“升”開關(guān)撥到下方,待鐘罩升到合適位置時,按住“?!卑粹o,鐘罩停止上升,將“升”開關(guān)撥回到上方。4、放樣品:將放有樣品的載物臺固定到鐘罩中。5、降鐘罩:按一下“降”按鈕,鐘罩開始往下降,降到適當(dāng)?shù)奈恢檬沟苗娬置芊鈺r自動停止。(注意,在鐘罩將要降到底時可以在前邊稍往上抬鐘罩,以保證鐘罩的密封效果,利于后面的真...
超聲波霧化模塊采用霧化模塊高速震蕩產(chǎn)生霧化進行加濕是國內(nèi)外應(yīng)用較廣的一種加濕方式。超聲波加濕器在工作時沒有機械驅(qū)動、沒有噪音干擾和污染,故障率低、能耗低、霧化效率高、維護簡便、可靠。具有護膚美容、康體健身、凈化環(huán)境等多種用途,是、可靠、實用的超聲波空氣質(zhì)量調(diào)節(jié)加濕設(shè)備。既可以較大空間進行均勻加濕,也可對特殊空間進行局部溫度補償,具有較高的使用靈活性.在正確的使用情況下,霧化片的使用壽命約3000小時,且極易更換。其使用壽命還與水的質(zhì)量有關(guān),如果霧化片上沉積了水垢,請用柔布清洗...
雙靶磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。雙靶磁控濺射儀原理磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中...
等離子鍍膜設(shè)備采用真空蒸發(fā)鍍膜法,在玻璃外表面涂制一層納米化學(xué)材料,大限度的降低玻璃表面張力,使灰塵與玻璃表面的接觸面積減少90%以上。AF鍍膜機作用后的外表面具有較強的疏水、抗油污、抗干擾能力;使視屏玻璃面板長期保持著光潔亮麗的效果。等離子鍍膜設(shè)備主要優(yōu)勢體現(xiàn):1、AF噴涂設(shè)備采用原裝德國進口納米噴頭,噴頭采用高低壓轉(zhuǎn)換霧化設(shè)計,使液態(tài)分子極精細,且不影響藥水效果。2、恒定流量控制系統(tǒng),保證藥水平穩(wěn)恒定的供流,而非波浪線式供流,解決白霧現(xiàn)象。3、控制噴涂藥量,提高藥水的霧化...
開啟式管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu),爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。內(nèi)爐膛表面涂有1750℃美國進口的高溫氧化鋁涂層材料提高反射率及設(shè)備的加熱效率和爐膛潔凈度,同時延長儀器的使用壽命。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命,是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬,非金屬及其它化合物進行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的理想設(shè)備。開啟式管式爐使用或長時間不用后,要在120℃左右烘烤1小時,在300℃左右烘烤2小時后使用,以免造...
高真空蒸發(fā)鍍膜儀主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在實驗室制備金屬膜、有機膜等方面有著廣泛的應(yīng)用。要想保證高真空蒸發(fā)鍍膜儀的正常運行,就必須保證高真空蒸發(fā)鍍膜儀沒有漏氣現(xiàn)象?,F(xiàn)在成越科儀就給大家介紹一下檢查高真空蒸發(fā)鍍膜儀是否漏氣的方法。查看漏氣狀況是確保高真空蒸發(fā)鍍膜儀真空度的一項查看辦法,簡稱檢漏,真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的,所以檢漏是*...
真空蒸發(fā)鍍膜儀日常維護1、例行保養(yǎng)生產(chǎn)設(shè)備中發(fā)現(xiàn)了一個不好的跡象,立即解決。鍍膜機不要認為這油定期更換,等待維修時間,轉(zhuǎn)子泵嚴重磨損可能。例如,軸承的一些卡工件轉(zhuǎn)架,更換軸承,然后等到它*打破了,可真是個大問題,鍍膜機可能會導(dǎo)致轉(zhuǎn)架電機燒毀等。2、定期檢修,鍍膜機有人會問一個日常的維護也需要定期維護?事實上,每個設(shè)備都有它自己的生命,如2年油擴散泵的使用壽命,提前更換,鍍膜機在生產(chǎn)階段沒有問題。只要你把日常維護和定期檢修,對設(shè)備的使用壽命,在同一時間的延長,生產(chǎn)過程中的失效概...
小型真空管式爐充氫氣或惰性氣體方法:一、使用氫氣作為工作氣體時1.接通氫氣氣路,對各接頭處用肥皂水檢漏,確認不漏氣。2.確認各閥門處于關(guān)閉狀態(tài)。3.逆時針旋轉(zhuǎn)旋鈕開氫氣瓶主閥,順時針旋動旋鈕,緩慢打開出口減壓閥,使出口氣壓在0.1MPa。4.接通機械泵電源,打開管式爐出口閥和機械泵氣路上的兩個閥門,抽5分鐘。5.關(guān)閉機械泵氣路上的兩個閥門,關(guān)閉管式爐出口閥門,關(guān)機械泵。6.逆順時針打開上氣路控制閥,使箭頭指向“開”位置。7.逆順時針調(diào)節(jié)流量計旋鈕,使示數(shù)在20ml/min。8...
1800℃小型箱式爐淬火硬度不足的改善方法箱式爐是把爐內(nèi)的電能轉(zhuǎn)化為熱量對工件加熱的加熱爐,同燃料爐比較,箱式爐的優(yōu)點有爐內(nèi)氣氛容易控制,甚至可抽成真空;物料加熱快,加熱溫度高,溫度容易控制;生產(chǎn)過程較易實現(xiàn)機械化和自動化;勞動衛(wèi)生條件好;熱效率高;產(chǎn)品質(zhì)量好;且更加環(huán)保對與日趨嚴重的環(huán)境問題是一個很好的產(chǎn)品等。冶金工業(yè)上箱式爐主要用于鋼鐵、鐵合金、有色金屬等的熔煉、加熱和熱處理。1800℃小型箱式爐淬火硬度不足的改善方法:1.大型工件:石墨+機油膏劑法先;先將石墨粉置于干凈...