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試論鋰離子電池極片的軋制與電池極片軋機一.鋰離子電池的歷史沿革人們往往把鋰離子電池稱為鋰電池，其實鋰離子電池從嚴格意義上講只是鋰電池的一種。而鋰電池是指電化學體系中含有鋰的電池，大致可分為兩類：鋰金屬電池和鋰離子電池。鋰金屬電池是由金屬鋰或鋁合金為負極材料，使用非水電解質溶液的電池，其發(fā)明者為偉大的發(fā)明家愛迪生。1970年?？松腗.S.whittingham采用硫化鈦為正極材料，金屬鋰作為負極材料，制成鋰電池。由于鋰金屬的化學特征非常活潑，使鋰金屬的加工、使用及保存，對環(huán)境...

CVD氣相沉積指把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程。在超大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。經過CVD處理后，表面處理膜密著性約提高30%，防止高強力鋼的彎曲，拉伸等成形時產生的刮痕。CVD氣相沉積的優(yōu)點：1、沉積成膜裝置簡單；2、與直接蒸發(fā)法相比，可在大大低于其熔點或分解溫度的沉積溫度下制造耐熔金屬和各種碳化物、氮化物、硼化物、硅化物和氧化物薄膜；3、成膜所需的反應源材料一般比較容易...

管式爐的溫區(qū)作用1、管式爐的溫區(qū)作用根據(jù)實驗室要求選擇單溫區(qū)管式加熱爐和多溫區(qū)管式加熱爐，多溫區(qū)較單溫區(qū)會設有多高熱電偶，n溫區(qū)加熱爐的恒溫區(qū)比（n-1）溫區(qū)的加熱爐恒溫區(qū)要長，部分儀器尺寸變大。2、恒溫區(qū)的作用恒溫區(qū)一般指加熱爐內的某一段區(qū)間內各點溫度基本一致，樣品放置在這一區(qū)間內，樣品各處受到的溫度會基本一致。（中心區(qū)域溫差小于+/-1℃）3、恒溫區(qū)不同帶來的變化恒溫區(qū)的增加或減少可能會改變儀器的尺寸，儀器整體會變長變大。4、恒溫區(qū)選擇選擇合適的恒溫區(qū)，一定要先根據(jù)實驗樣...

化學氣相沉積是反應物質在氣態(tài)條件下發(fā)生化學反應，生成固態(tài)物質沉積在加熱的固態(tài)基體表面，進而制得固體材料的工藝技術。它本質上屬于原子范疇的氣態(tài)傳質過程。常用的化學氣相沉積法有常壓化學氣相沉積法(Atmospheric-pressureCVD，APCVD)、低壓化學氣相沉積法(Low-pressureCVD，LPCVD)和等離子增強化學氣相沉積法(Plasma-enhancedCVD，PECVD)，而這三種化學氣相沉積法的均有各自的優(yōu)、缺點及應用的地方?；瘜W氣相沉積主要應用于兩大...

真空感應熔煉爐的工作原理：使用時，熔煉的材料在水冷銅坩堝內進行懸浮熔煉、凈化及加熱，同時可以進行電磁攪拌細化晶粒及雜質分離，凝固時停止熔煉，仍然進行電磁攪拌以繼續(xù)均勻成分及組織。啟動凝固拉桿并內部通水冷卻，在密封艙內按一定速度緩緩下降拉桿，達到普通凝固或者定向凝固的作用。*冷卻后得到一根棒坯。另外，本設備設計了機械攪拌裝置，可從事復合材料的制備。本設備具有純凈化、均勻化和連續(xù)化制備高活性銅鋁鈦及其合金的特點，適合用于科研和工業(yè)化生產。真空感應熔煉爐的特點：1、感應線圈借鑒國外...

馬弗爐又稱為高溫電爐，箱式電爐，其實是一種通用的加熱設備，可分為：箱式爐、管式爐、坩堝爐。具體作用：(1)馬弗爐可以熱加工、水泥、建材行業(yè),進行小型工件的熱加工或處理；(2)國家標準節(jié)能型周期作業(yè)電爐，主要供合金鋼制品、各種金屬機件正火、淬火、退火等熱處理之用，或金剛石等切割刀片進行高溫燒結用途(3)碳鋼、合金鋼、高錳鋼、高鉻鋼等工件淬火、正火、退火、調質加熱用。(4)各種小型零件、彈簧、模具熱處理。高溫電爐通常溫度可達到1800度，經過特殊處理的爐子可達到1800度，(5)...

實驗材料：厚度0.5㎜的銅箔、透明無機溶膠，實驗樣品如圖1所示銅箔無機溶膠圖1實驗所用樣品圖材料特性：銅箔質軟，容易褶皺；透明無機溶膠具有較大的粘性，不易甩開。實驗目的：在銅箔表面涂覆一層厚度均勻的薄膜實驗設備：VTC-200真空旋轉涂膜機，實驗所用設備如圖2所示：VTC-200真空旋轉涂膜機圖2實驗所用設備圖實驗所用設備特點：VTC-200真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點，可利用高速旋轉的吸盤使粘滯系數(shù)較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面。該機使用...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀應用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見，是*的一項技術。由真空鍍膜室、蒸發(fā)源、真空機組、卡具、蒸發(fā)電源、控制系統(tǒng)與輔助裝置等組成。高真空蒸發(fā)鍍膜儀主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在高真空蒸發(fā)鍍膜儀的使用中，有3大要素是需要用戶特別留意：清潔真空鍍膜機每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。方法是：用燒堿（NaOH）飽和溶液反...

小型蒸鍍儀標準操作步驟小型蒸鍍儀是一款小型真空鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些輕金屬，如Al.Mg,和Li等。同時也可對樣品進行鍍碳處理，zui大可處理的樣品直徑為50mm。小型蒸鍍儀的使用可分為4步，即蒸鍍前準備工作、蒸鍍儀的預熱、蒸鍍薄膜以及關機.1、蒸鍍前準備工作：1.1）開充氣閥，對鐘罩內充氣，再升鐘罩；1.2）根據(jù)鐘罩內是否清潔，先使用酒精清洗鐘罩內的零部件；1.3）安裝鉬舟，并將鋁絲條放入鉬舟中，并將所要沉積的襯底粘附于鋁板上；1.4）降鐘罩，在鐘罩下降的同時要觀察是否存...

雙靶磁控濺射儀是一款新型的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。雙靶磁控濺射儀操作規(guī)范：雙靶磁控濺射儀開機1、打開冷水機。設定溫度：冬天10-15℃，夏天5℃2、打開放氣閥破真空，然后關閉放氣閥（之后整個工作過程務必保證放氣閥均是關閉狀態(tài)。本機閥門均是逆時針打開，順時針關閉）3、...

等離子鍍膜設備是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗幫手。等離子鍍膜設備優(yōu)勢：1、AF噴涂設備采用原裝德國進口納米噴頭，噴頭采用高低壓轉換霧化設計，使液態(tài)分子極精細，且不影響藥水效果；2、鋨存儲器可拆卸：具有密封式結構，可冷凍保存；3、理論設計產能3000片-4000片/小時；4、噴嘴運...

小型真空管式爐充工作氣體的方法：使用氫氣作為工作氣體時1、接通氫氣氣路，對各接頭處用肥皂水檢漏，確認不漏氣。2、確認各閥門處于關閉狀態(tài)。3.逆時針旋轉旋鈕開氫氣瓶主閥，順時針旋動旋鈕，緩慢打開出口減壓閥，使出口氣壓在0.1MPa。4、接通機械泵電源，打開管式爐出口閥和機械泵氣路上的兩個閥門，抽5分鐘。5.關閉機械泵氣路上的兩個閥門，關閉管式爐出口閥門，關機械泵。6.逆順時針打開上氣路控制閥，使箭頭指向“開”位置。7.逆順時針調節(jié)流量計旋鈕，使示數(shù)在20ml/min。8、逆時針...